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专利 |
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| 专利名称： |
正电子发射断层扫描仪深度效应校正方法及其系统
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| 英文名称： |
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| 专利号： |
ZL 201621453681.8
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| 专利类别： |
发明
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| 专利证书号： |
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| 申请号： |
2015109567695
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| 发明人： |
孙校丽;单保慈;刘双全;葛红红;贠明凯;高娟;李默涵;柴培;章志明;魏龙;王骏飞;韩强强;刘志蓉
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| 其它发明人： |
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| 申请日期： |
2015-12-19
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| 专利授权日期： |
2018-09-28
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| 国外申请日期： |
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| 国外申请方式： |
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| 缴费情况： |
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| 实施情况： |
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| 专利摘要： |
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| 其它备注： |
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